金相磨抛機

金相磨抛機

金相樣品的制備是通過切割機、鑲嵌機和金相磨抛機來完成的,金相樣品的最終質量由金相磨抛機測定。抛光是金相樣品制備過程中的重要部分。抛光是爲了去除因磨削樣品而產生的磨損痕迹和變形層,並使之成爲鏡面光滑的最終過程。抛光方法包括機械抛光,電解抛光,化學抛光和複合抛光。金相磨抛機的使用是目前使用最廣泛的抛光方法。其正確的工藝和操作方法是在獲得高質量樣品的條件下以及其他條件(例如保留邊緣和石墨以及夾雜物的保留)的條件下獲得最高的抛光速率。選擇可靠的金相磨抛機可以提高樣品制備的效率和質量,減少樣品的浪費率,從而降低成本,提高經濟效益並實現樣品質量的一致高度性。

金相磨抛機運行的關鍵是設法獲得最大的抛光速度,以盡快去除抛光引起的損壞層。同時,抛光損傷層將不會影響最終觀察到的組織,即不會造成假組織,這兩個要求是矛盾的。前者需要使用粗磨料以確保更大的抛光速率以去除抛光損傷層,但抛光損傷層更深;因此,需要使用粗磨料。後者需要使用最好的材料來使抛光的損傷層變淺,但是抛光速率低。解決這一矛盾的最佳方法是將抛光分爲兩個階段。首先,粗抛光是去除抛光損傷層。此階段應具有最大的抛光速度。次要考慮的是由粗糙抛光引起的表面損壞,但也應盡可能小。其次,精細抛光(或最終抛光)是爲了消除由粗糙抛光引起的表面損傷並使抛光損傷最小化。

金相磨抛機種類繁多,主要由電機驅動的一組抛光盤組成。抛光光盤具有單個或多個光盤。通常使用具有兩個抛光板的雙頭抛光機。抛光盤由直徑約200mm的鑄銅或鋁制成。抛光盤安裝在主軸上(水平和垂直),並在軸承支撐下水平旋轉。其轉速爲約600-1600r / min。抛光機配有換档裝置,可以根據需要將速度調節到200-600 r / min。

近年來,隨着科學技術的不斷發展,中國已生產出多種類型的金相磨抛機。其中,有使研磨面以更複雜的軌迹運動的金相磨抛機,有以更簡單的圓形軌迹運動的金相磨抛機。根據該結構,一些樣品可以同時自動抛光,也有一些是只能一次抛光一個樣品。也有專門設計和制造的金相磨抛機,可以安裝在普通金相磨抛機上的自動抛光配件。