金相磨抛機由基本部件組成,如底座、抛光板、抛光織物、抛光盖和盖子。電機固定在底座上,用于固定研磨抛光盤的錐套通過螺釘與電機軸連接。研磨抛光布通過套圈固定在研磨抛光板上,金相磨抛機通過底座上的開關打開電機啓動後,可以用手對樣品施加壓力,對旋轉的研磨抛光板進行研磨抛光研磨抛光過程中加入的研磨抛光液可以通過固定在底座上的塑料板中的排水管流入研磨抛光機旁邊的方板中。研磨抛光罩和罩可防止機器不使用時灰塵等雜物掉落在研磨抛光織物上,影響使用效果。

金相磨抛機研磨抛光時,樣品研磨面和研磨抛光板應平行並均勻輕輕壓在研磨抛光板上,注意防止樣品飛出和壓力過大造成新的研磨痕迹。同時,樣品也應沿轉盤的半徑方向旋轉和來回移動,以避免抛光織物的局部磨損過快。在抛光過程中,應不斷添加微粉懸浮液,以保持抛光織物處于一定濕度。濕度會削弱磨削和抛光的磨削痕迹效應,使樣品中的硬質相表現出鋼中非金屬夾雜物和鑄鐵中石墨相引起的“拖尾”現象。如果濕度太小,樣品會因摩擦生熱而發熱,潤滑效果會降低,抛光後的表面會失去光澤,甚至會出現黑點,輕合金會損壞表面。爲了達到粗抛光的目的,轉盤的轉速要求低,不超過500轉/分鍾。研磨和抛光時間應長于去除劃痕所需的時間,因爲變形層也應被去除。粗抛光後,抛光後的表面光滑,但不光滑,顯微鏡下觀察到均勻細小的磨痕,需要通過精抛光去除。在精細抛光過程中,轉盤的速度可以適當提高,研磨和抛光時間適于丟棄粗抛光的損壞層。抛光結束後,抛光後的表面像鏡子一樣明亮,在顯微鏡明亮的視野下看不到劃痕,但在相差照明的條件下仍然可以看到抛光的痕迹。

金相磨抛機操作的關鍵是要獲得抛光速率,以便盡快去除抛光過程中產生的損壞層。同時,研磨和抛光損傷層不會影響最終觀察到的組織,即不會造成假組織。前者要求使用較粗的磨料以確保較高的抛光速率來去除抛光損傷層,但抛光損傷層也更深。後者要求使用精細材料使抛光損傷層變淺,但抛光速率低。解決這個矛盾的辦法是把研磨和抛光分成兩個階段。粗抛光的目的是去除抛光的受損層。抛光速率應在此階段設定。粗糙抛光造成的表面損傷是次要考慮因素,但也應盡可能小。第二種是精細抛光(或最終抛光),旨在消除粗糙抛光造成的表面損傷,並將磨損損傷降至最低。